双色球历史|双色球2015066

產品展示

砷化鎵CMP拋光液

名稱:砷化鎵CMP拋光液
詳細信息 :

pH

比重

粘度(25℃,mPa.s)

磨料粒徑(nm)

氧化鈉含量(%

磨料濃度(%)

外觀

8.59.5

1.268~1.30

< 10.0

100120

0.3

40±2

乳白


    UPP/GAS01型 CMP漿料具有金屬雜質沾污極少、活性強、表面張力低、易清洗、拋光速率高等特點,非常適用于集成電路用砷化鎵晶片的拋光工藝。在拋光中根據需要可以優化不同配比,均能達到使用效果。與同類產品相比,該產品采用無金屬離子、易溶于水的螯合劑,有效控制晶片表面的各種金屬沾污,主要參數指標均能滿足IC要求。

UPP/GAS01型 CMP漿料主要用于砷化鎵晶片的高質量拋光,也可用于鍺片的拋光







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